KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度可調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
技術參數
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控制方式 |
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
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濺射電源 |
直流濺射電源 |
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鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
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功率 |
≤1000W |
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輸出電壓電流 |
電壓≤1000V 電流≤1A |
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真空 |
機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
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濺射真空 |
≤30Pa |
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擋板類型 |
電控 |
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真空腔室 |
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
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樣品臺 |
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
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樣品臺轉速 |
8轉/分鐘 |
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樣品濺射源調節距離 |
40-105mm |
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真空測量 |
皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
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預留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
