磁控濺射鍍膜機是一種常見的金屬薄膜制備設備，采用磁場使靶材中的金屬離子濺射到基片上，從而形成金屬薄膜。它不僅可以制備單層金屬膜，還可以用于合金、多層膜和復合膜等工藝。磁控濺射鍍膜機的優點是薄膜制備速度快，制備效果良好，適用于不同形狀和大小的基片。廣泛應用于電子、光電、半導體和納米科技等領域。
真空蒸發鍍膜機是一種通過加熱材料讓其蒸發并沉積在基板表面形成薄膜的技術。該設備操作簡單、制備工藝成熟，廣泛應用于金屬、二氧化硅、氧化鋅和有機聚合物等材料的薄膜制備。真空蒸發鍍膜機的優點是可以制備各種樣品的薄膜，并且可以通過控制沉積速度來獲得良好的膜厚均勻性。
