桌面式金屬蒸鍍儀KT-Z1650CVD
是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。
真空蒸發鍍膜包括以下基本過程：
（1）加熱蒸發過程：包括由凝聚相轉變為氣相的過程，每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。
（2）氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸，即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發，凝聚，成核，核生長，形成連續的膜。由于基板溫度遠低于基板溫度遠低于蒸發源溫度，因此，氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。
技術參數
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控制方式 |
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
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加熱方式 |
數字式功率調整器 |
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鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
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功率 |
≤1200W |
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輸出電壓電流 |
電壓≤12V 電流≤120A |
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真空度 |
機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
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擋板類型 |
電控 |
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真空腔室 |
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
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樣品臺 |
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
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樣品臺轉速 |
8轉/分鐘 |
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樣品蒸發源調節距離 |
70-140mm |
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蒸發溫度調節 |
≤1800℃ |
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支持蒸發坩堝類型 |
鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
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預留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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可選配擴展 |
機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
