小型蒸鍍儀鄭州科探儀器KT-Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對大部分金屬進行均勻蒸發沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器技術資料
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控制方式 |
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
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加熱方式 |
數字式功率調整器 |
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鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
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功率 |
≤1200W |
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輸出電壓電流 |
電壓≤12V 電流≤120A |
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真空度 |
機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
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擋板類型 |
電控 |
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真空腔室 |
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
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樣品臺 |
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
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樣品臺轉速 |
8轉/分鐘 |
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樣品蒸發源調節距離 |
70-140mm |
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蒸發溫度調節 |
≤1800℃ |
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支持蒸發坩堝類型 |
鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
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預留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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可選配擴展 |
機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
