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      碳化硅晶圓硅片拋光液研磨液

      • 發(fā)布時間:2024-12-05 09:56:09,加入時間:2024年10月18日(距今383天)
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      晶圓拋光液KND-LP30是一種水溶性拋光劑,主要由磨料、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑和表面活性劑等多種化學(xué)成分組成。這些成分在拋光過程中共同作用于晶圓表面,實現(xiàn)研磨、腐蝕溶解等效果,從而達到拋光的目的。

      晶圓拋光液KND-LP30的工作原理

      晶圓拋光液在CMP工藝中起到關(guān)鍵作用。它通過與晶圓表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),形成一層結(jié)合力弱的氧化膜,有利于后續(xù)機械去除。在氧化劑的氧化腐蝕與磨料研磨的共同作用下,晶圓表面可達到高質(zhì)量全局平坦化效果。

      晶圓拋光液KND-LP30的優(yōu)點

      拋光效果好:能夠去除金屬表面的粗糙部分,提高表面光潔度,使金屬表面呈現(xiàn)自然光澤。

      防腐蝕性強:在金屬表面形成一層具有保護作用的金屬氧化物層,大大減少了金屬的腐蝕情況。

      增加耐磨性:使金屬表面變得更加光滑,從而提高金屬表面的耐磨性和潤滑能力。

      碳化硅晶圓硅片拋光液研磨液

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